掩模基板抛光机
半导体加工设备
市场价:¥0.00
价格:¥0.00
主要应用于半导体集成电路的高平坦度的电子设备用基板,该设备提供一种新的掩模基板抛光和制造方法。
化学机械抛光单模组
基于晶圆的抛光设备,利用柔性抛光头承载晶圆在抛光垫上旋转抛光。设备具有高度兼容性,可以通过修改RECIPE变更加压压力。可通过最多3种化学液的配合下实现化学机械抛光。点击获取更多技术资料